半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備!

　　半導(dǎo)體廢氣處理設(shè)備是用于凈化半導(dǎo)體制造過程中產(chǎn)生的有害氣體的專用設(shè)備，其核心功能是去除或轉(zhuǎn)化廢氣中的污染物，以滿足環(huán)保排放標(biāo)準(zhǔn)。

　　1、吸附式設(shè)備

　　利用多孔固體吸附劑(如活性炭、沸石分子篩)的物理吸附作用，將廢氣中的有機(jī)物、酸性/堿性氣體等污染物截留在表面。

　　2、催化燃燒設(shè)備

　　在催化劑(如鉑、鈀)作用下，廢氣中的有機(jī)物在較低溫度(200-400℃)下氧化分解為CO?和H?O。

　　3、濕式洗滌設(shè)備

　　利用堿性或酸性溶液與廢氣中的污染物發(fā)生中和反應(yīng)，或通過氧化反應(yīng)分解有害物質(zhì)。

　　半導(dǎo)體制造工藝復(fù)雜，廢氣成分多樣，通常需采用“分類收集、分級處理”策略：

　　1、光刻工藝：產(chǎn)生異丙醇、丙酮等有機(jī)廢氣，可采用“沸石轉(zhuǎn)輪濃縮+RTO”組合工藝，處理效率≥95%。 蝕刻工藝：產(chǎn)生HF、HCl等酸性氣體及Cl?、BCl?等，先通過堿液噴淋塔中和酸性氣體，再經(jīng)干式過濾器攔截顆粒物。

　　2、離子注入工藝：排放AsH?、PH?等劇毒氣體，需先用專用燃燒器高溫分解，再進(jìn)入濕式洗滌塔進(jìn)一步處理。

　　3、清洗工藝：產(chǎn)生有機(jī)和酸堿混合廢氣，可部署兩級蜂窩活性炭吸附達(dá)標(biāo)，或采用“酸洗塔+堿洗塔”組合方式。